SK海力士CEO Seok-hee Lee（李锡熙）近期和媒体沟通了无锡海力士半导体工厂的相关情况。

其中关于EUV光刻机的问题，让人关注。李锡熙表示，正与美方合作，进展良好。EUV光刻技术已经在韩国本土的DRAM产线上应用，中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通。

据悉SK海力士在无锡工厂引进的光刻机将用于制造10nm DRAM芯片，也就是第四代内存。